[发明专利]减少掩模板雾状缺陷的方法无效
| 申请号： | 201110394294.7 | 申请日： | 2011-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN102436137A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 周军 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/72 | 分类号： | G03F1/72;G03F1/82 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 董雅会;郭晓东 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种减少掩模板雾状缺陷的方法，来减少因雾状缺陷而再清洗掩模板的次数，从而能够提高掩模板的使用寿命。该减少掩模板雾状缺陷的方法，在掩模板上通过铝框架覆盖有保护膜，在所述掩模板上覆盖所述保护膜之前，利用超纯水清洗所述掩模板，和/或，在将所述铝框架固定在所述掩模板上之前，以纯水作为电解液，通过电解在该铝框架的表面形成氧化铝保护层。 | ||
| 搜索关键词： | 减少 模板 雾状 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
一种减少掩模板雾状缺陷的方法，在掩模板上通过铝框架覆盖有保护膜，其特征在于，在所述掩模板上覆盖所述保护膜之前，利用超纯水清洗所述掩模板。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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