[发明专利]多晶硅铸锭用的免烧结坩埚涂层结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201110397731.0 | 申请日： | 2011-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN103130528A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 黄春来;薛抗美;游达 | 申请（专利权）人： | 江苏协鑫硅材料科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/89 | 分类号： | C04B41/89 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 221004 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种多晶硅铸锭用的免烧结坩埚涂层结构，包括：置于坩埚基底上的第一涂层，和置于该第一涂层上的第二涂层；所述第一涂层通过涂覆第一涂层组合物形成，所述第一涂层组合物由基于第一涂层组合物总重量的70-80％的溶剂和20-30％的粘结剂组成；所述第二涂层通过涂覆第二涂层组合物形成，所述第二涂层组合物含有基于第二涂层组合物总重量的14-20％的氮化硅、60-70％的溶剂和14-20％的粘结剂，且所述溶剂选自水或醇；所述粘结剂选自聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮或硅溶胶。本发明也公开了该涂层结构的制备方法。该涂层结构在多晶硅的生产过程中，作为坩埚脱模涂层，可直接涂覆使用，免除涂层烧结热处理的步骤，减少生产环节，极大地降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 铸锭 烧结 坩埚 涂层 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种多晶硅铸锭用的免烧结坩埚涂层结构，包括：置于坩埚基底上的第一涂层，和置于该第一涂层上的第二涂层；所述第一涂层通过涂覆第一涂层组合物形成，所述第一涂层组合物由基于第一涂层组合物总重量的70‑80％的溶剂和20‑30％的粘结剂组成；所述第二涂层通过涂覆第二涂层组合物形成，所述第二涂层组合物含有基于第二涂层组合物总重量的14‑20％的氮化硅、60‑70％的溶剂和14‑20％的粘结剂，且所述溶剂选自水或醇；所述粘结剂选自聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮或硅溶胶。第二涂层组合物中氮化硅和粘结剂的下限高了
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