[发明专利]阵列基板与具有该阵列基板的液晶面板及其制造方法有效
| 申请号： | 201110400718.6 | 申请日： | 2011-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN103091912A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 陈永福;吴荣彬;陈柏孝;吴健豪 | 申请（专利权）人： | 瀚宇彩晶股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L21/77 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 中国台湾新北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板与具有阵列基板的液晶面板及其制造方法，阵列基板包括基板、多个扫描线、多个数据线、多个下接触垫、保护层以及透明导电层。基板具有第一显示区域、第二显示区域以及第一非显示区域。多个下接触垫设置于第一非显示区域。透明导电层设置于保护层上，具有第一像素电极、第二像素电极以及多个上接触垫，第一像素电极与第二像素电极分别位于第一显示区域与第二显示区域，其中第一像素电极的宽度等于或是近似第二像素电极的宽度，上接触垫位于第一非显示区域且电性连接下接触垫。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 具有 液晶面板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括下列步骤：形成多个下接触垫于一基板上；形成一透明导电层于所述基板上；涂布一光阻层于所述透明导电层上；对所述光阻层进行一曝光步骤，定义相对应于所述下接触垫的多个曝光图案；当在所述显影液的流动过程中，每一所述曝光图案形成多个梳状图案及/或防波墙图案；以及形成相多个上接触垫电性连接所述下接触垫。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瀚宇彩晶股份有限公司，未经瀚宇彩晶股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110400718.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
