[发明专利]一种TSV阻挡层抛光液有效
| 申请号： | 201110402662.8 | 申请日： | 2011-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN103146306A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖;孙展龙 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种适用于硅通孔(TSV)阻挡层的化学机械抛光液，至少含有一种磨料，一种复合金属铜腐蚀抑制剂，一种络合剂，一种氮化硅调节剂，该抛光液具有较高的二氧化硅去除速率，和较低的氮化硅去除速率，能够对阻挡层进行高效的平坦化，并停止在氮化硅层，形成硅通孔，同时不产生金属腐蚀，具有较高的缺陷校正能力和较低的表面污染物指标。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 tsv 阻挡 抛光 | ||
【主权项】：
一种TSV阻挡层抛光液，其特征在于，包含以下组分：磨料、组合金属保护剂、络合剂、氧化剂、氮化硅抑制剂和pH调节剂。
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