[发明专利]聚焦环、聚焦环组合、IMP溅射设备无效
| 申请号： | 201110403767.5 | 申请日： | 2011-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN102418075A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;汪涛 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种聚焦环组合，包括：聚焦环；位于所述聚焦环外的安装钉，所述安装钉包括柱体与膨大的背部，所述安装钉的背部固定在所述聚焦环的外表面上，所述柱体的内部设有螺纹孔。本发明还提供了与上述聚焦环组合相对应的聚焦环与IMP溅射设备。本发明的聚焦环组合、聚焦环和IMP溅射设备将或适于将安装钉焊接在聚焦环的外表面上，不会出现安装钉的背部因参与溅射而被消耗掉，最终不能起到固定聚焦环的作用，使得聚焦环也无法继续使用的问题，这样也就增加了聚焦环的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 组合 imp 溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种聚焦环组合，其特征在于，包括：聚焦环；位于所述聚焦环外的安装钉，所述安装钉包括柱体与膨大的背部，所述安装钉的背部固定在所述聚焦环的外表面上，所述柱体的内部设有螺纹孔。
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