[发明专利]聚焦环组合、IMP溅射设备有效
申请号: | 201110403783.4 | 申请日: | 2011-12-07 |
公开(公告)号: | CN102437003A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;汪涛 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J37/34 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种聚焦环组合,包括:聚焦环,所述聚焦环上设有通孔;安装钉,所述安装钉包括柱体及膨大的背部,所述背部贴附在所述聚焦环的内表面,所述柱体通过所述通孔延伸出所述聚焦环的外表面,所述柱体的内部设有螺纹孔;其中,所述安装钉的背部厚度大于1.53mm。本发明还提供了与上述聚焦环组合相对应的IMP溅射设备。本发明的聚焦环组合、聚焦环和IMP溅射设备将或适于将安装钉的背部加厚,即增加了背部在溅射中被消耗掉的时间,这样也就增加了聚焦环的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 聚焦 组合 imp 溅射 设备 | ||
【主权项】:
一种聚焦环组合,其特征在于,包括:聚焦环,所述聚焦环上设有通孔;安装钉,所述安装钉包括柱体及膨大的背部,所述背部贴附在所述聚焦环的内表面,所述柱体通过所述通孔延伸出所述聚焦环的外表面,所述柱体的内部设有螺纹孔;其中,所述安装钉的背部厚度大于1.53mm。
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