[发明专利]一种优化综合孔径阵构型的方法有效
申请号: | 201110405375.2 | 申请日: | 2011-12-08 |
公开(公告)号: | CN102567573A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 苏彦;周建峰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院国家天文台;清华大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100012 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种优化新型综合孔径阵构型的方法。综合孔径阵成像技术是实现极高分辨率天文观测的有效手段,对研究宇宙中一些天体如活动星系核、X射线双星等起着至关重要的作用;综合孔径阵的构型直接影响着成像的质量,因此构型的优化设计对建设大型的综合孔径阵十分关键。本优化方法首次将库伦场的概念引入到优化设计中,库伦力的作用促使阵构型向优化的方向演化,通过设置额外的耗散力,最终得到最优化的阵构型。库伦场的引入使得阵构型的优化设计更为精确,并大大降低优化的计算量。另外,本优化方法首次将势能作为评价综合孔径阵构型优劣的指标,使得将阵构型的优化建立在合理的物理基础之上。 | ||
搜索关键词: | 一种 优化 综合 孔径 构型 方法 | ||
【主权项】:
一种优化综合孔径阵构型的方法,其特征在于,所述综合孔径阵具有N个望远镜单元,所述N个望远镜单元具有N*(N‑1)个u‑v点,其中,每个望远镜单元对应2*(N‑1)个u‑v点,该方法包括以下步骤:为所述具有N个望远镜单元的综合孔径阵随机设置一初始构型;使用一个带电粒子来表示所述N*(N‑1)个u‑v点中的每一个;计算得到每个u‑v点所受到的库伦力Fi,j,其中Fi,j表示第i个望远镜单元与第j个望远镜单元对应的u‑v点所受的库伦力;根据所述每个u‑v点所受到的库伦力Fi,j计算得到每一个望远镜单元所受到的库伦合力Fi;为每一个望远镜单元添加一耗散阻力fi;计算优化评价指标,所述优化评价指标达到某一条件时的构型即为优化的均匀分布构型。
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