[发明专利]一种光催化活性碳掺杂氧化钛薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 201110405531.5 | 申请日： | 2011-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102489286A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 文峰;冷永祥;谢东;赵安莎;张聪 | 申请（专利权）人： | 海南大学 |
| 主分类号： | B01J21/18 | 分类号： | B01J21/18;B01J35/02 |
| 代理公司： | 海口翔翔专利事务有限公司 46001 | 代理人： | 李勇;刘清莲 |
| 地址： | 570228 *** | 国省代码： | 海南;66 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光催化活性碳掺杂氧化钛薄膜的制备方法。其特征在于：采用CO2气体为碳源，高纯金属钛靶为溅射靶，在不锈钢或玻璃基片上制备一种光催化活性碳掺杂氧化钛薄膜的方法，具体步骤如下：a、首先将镜面不锈钢基体进行氮离子注入强化，提高不锈钢基片表面的强度；b、将氮离子强化后的不绣钢基片或玻璃基片固定在靶台上，抽真空到10-3Pa，通入氩气对基片进行5-15分钟的清洗，然后对靶材进行2-8分钟的溅射清洗；c、保持氩分压在0.3-0.7Pa，通入CO2气体，使真空室内分压达到0.4-0.9Pa，保持靶基距在50-100mm。开启溅射电源，控制溅射电流3A，基体偏压-150V，溅射沉积10-120分钟；d、溅射沉积过程结束后，保持真空冷却至室温后取出制备的样品。本发明的有益效果是：无需制备含碳复合靶，工艺稳定重现性好，气源来源方便，制备方法简单，镀膜成本低；还能解决光催化剂固载化的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光催化 活性碳 掺杂 氧化 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光催化活性碳掺杂氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于：采用CO2气体为碳源，高纯金属钛靶为溅射靶，在不锈钢或玻璃基片上制备一种光催化活性碳掺杂氧化钛薄膜的方法，具体步骤如下：a、首先将镜面不锈钢基体进行氮离子注入强化，提高不锈钢基片表面的强度；b、将氮离子强化后的不绣钢基片或玻璃基片固定在靶台上，抽真空到10‑3Pa，通入氩气对基片进行5‑15分钟的清洗，然后对靶材进行2‑8分钟的溅射清洗；c、保持氩分压在0.3‑0.7Pa，通入CO2气体，使真空室内分压达到0.4‑0.9Pa，保持靶基距在50‑100mm，开启溅射电源，控制溅射电流在3A，基体偏压‑150V，溅射沉积10‑120分钟；d、溅射沉积过程结束后，保持真空冷却至室温后取出制备的样品。
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