[发明专利]卡吸装置和卡吸方法有效
申请号: | 201110415647.7 | 申请日: | 2011-12-01 |
公开(公告)号: | CN102543814A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 大井浩之 | 申请(专利权)人: | 富士电机株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;B25B11/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 浦易文;李丹丹 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 为了提供一种卡吸装置和卡吸方法,其可防止异物卡在装置与半导体基板之间,并可在保持或增加半导体基板平坦度的情况下保持半导体基板。卡吸装置包括基部、圆筒形周缘部分、多个吸孔以及真空源,基部上设有支承半导体基板的中心部分的多个突出部分,圆筒形周缘部分支承半导体基板的外部周边部分,多个吸孔卡吸半导体基板,真空源以不同时序真空抽吸多个吸孔。在突出部分的至少一个部分内设置多个相互独立的可真空抽吸吸孔。在周缘部分内设置独立于前述吸孔可真空抽吸的吸孔。在将半导体基板放置在突出部分和周缘部分上之后,使用真空源真空抽吸多个吸孔,以不同时序抽吸在半导体基板上的多个位置。 | ||
搜索关键词: | 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种具有吸孔的卡吸装置,所述卡吸装置保持半导体基板,所述装置包括:基部,所述基部具有支承所述半导体基板的多个突出部分;多个吸孔,所述多个吸孔可彼此独立地真空抽吸并设置在所述突出部分中的至少一个部分内;以及真空产生单元,所述真空产生单元以不同时序真空抽吸所述多个吸孔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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