[发明专利]一种场效应晶体硅太阳能电池的制作方法有效
申请号: | 201110416856.3 | 申请日: | 2011-12-14 |
公开(公告)号: | CN102522453A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 万青;竺立强;张洪亮;吴国栋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 陈英俊 |
地址: | 315201 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种场效应晶体硅太阳能电池的制作方法。首先,在清洗制绒后的p型晶体硅片背表面沉积含磷的二氧化硅薄膜,或者,在清洗制绒后的n型晶体硅片背表面沉积含硼的二氧化硅薄膜;然后,制备前、背收集电极,将背部收集电极引出后,在电池的背表面制备二氧化硅薄膜,并在二氧化硅薄膜表面制备场效应电极;最后,在p型晶体硅电池的场效应电极与前栅电极间加载正偏压,或者,在n型晶体硅电池的场效应电极与前栅电极间加载负偏压,完成电池制作。与现有的晶体硅太阳能电池制作方法相比,本发明的方法简单易行,极大地简化了现有的制作工艺,降低了制作成本,具有广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 场效应 晶体 太阳能电池 制作方法 | ||
【主权项】:
一种场效应晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是:在清洗制绒后的p型晶体硅片的背表面沉积一层含磷的二氧化硅薄膜,在含磷的二氧化硅薄膜表面制备背收集电极,引出背收集电极后,在背收集电极表面继续沉积二氧化硅薄膜,并在该二氧化硅薄膜表面通过溅射或蒸镀方法制备一层场效应金属电极;最后,在场效应金属电极与前栅电极间加载正偏压,从而利用二氧化硅的场效应使p型晶体硅衬底背面形成反型层;或者,在清洗制绒后的n型晶体硅片的背表面沉积一层含硼的二氧化硅薄膜,在含硼的二氧化硅薄膜表面制备背收集电极,引出背收集电极后,在背收集电极表面继续沉积二氧化硅薄膜,并在该二氧化硅薄膜表面通过溅射或蒸镀方法制备一层场效应金属电极;最后,在场效应金属电极与前栅电极间加载负偏压,从而利用二氧化硅的场效应使n型晶体硅衬底背面形成反型层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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