[发明专利]一种PIII工艺流程控制和在线剂量、均匀性检测方法

摘要

本发明公开了一种PIII工艺流程控制和在线剂量、均匀性检测方法，属于PIII技术领域。该方法基于PIII工艺流程控制和在线剂量、均匀性检测装置，能够对PIII工艺流程进行控制，并对PIII剂量和均匀性进行在线检测。

主权项

一种PIII工艺流程控制和在线剂量、均匀性检测方法，其特征在于，所述方法基于PIII工艺流程控制和在线剂量、均匀性检测装置，所述在线检测PIII剂量和均匀性的装置的终端部件包括工作腔室、气源、功率源、偏压源、偏压电极、真空系统、法拉第杯系统、冷却系统、信号检出系统、信号处理与控制系统和人机交互介面；其中，所述偏压电极上具有用于放置需要对其进行PIII工艺流程的基片的区域；在所述区域空载的情况下执行PIII工艺流程，包括以下步骤：通过所述人机交互界面输入初始条件；所述信号处理与控制系统接收来自所述人机交互界面的初始条件信号，并且，将所述初始条件信号转化成相应终端部件的控制信号后传输给相应的终端部件；所述相应终端部件接收所述控制信号，并根据所述控制信号进行动作，并产生初始实时状态参数，其中，所述PIII剂量和均匀性由所述信号检出系统检实时检出，所述初始实时状态参数信号、所述PIII剂量和均匀性分别被传输给所述信号处理与控制系统；所述信号处理与控制系统将所述初始条件和所述初始实时状态参数进行对比，所述信号处理与控制系统将所述实时检测得到的PIII剂量和均匀性与限定条件进行对比，当所述初始实时状态参数和所述初始条件的偏差在容许范围内，并且，所述PIII剂量和均匀性达到限定的条件时，在所述区域加载所述基片；在所述区域加载有所述基片的情况下执行所述PIII工艺流程，当所述工艺流程达到执行完毕的标准时，所述工艺流程结束。