[发明专利]一种制作微孔光栏的方法有效
| 申请号： | 201110423130.2 | 申请日： | 2011-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN103159162A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 吴砺;林磊;赵振宇;陈燕平 | 申请（专利权）人： | 福州高意光学有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 福建炼海律师事务所 35215 | 代理人： | 许育辉 |
| 地址： | 350001 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学元件领域，公开了一种制作微孔光栏的方法，首先采用光刻方法在光学基板上刻蚀所需形状、尺寸的凸起，并在凸起上镀非浸润膜层；再在光学基板的非镀膜区域覆盖SiO2气溶胶或低温焊料；最后固化气溶胶，再去除光学基板，便可形成所需微孔光栏；光学基板采用可与SiO2气溶胶或低温焊料浸润的材料，凸起上的膜层采用与SiO2气溶胶或低温焊料不浸润的材料。本发明利用基板与SiO2气溶胶浸润，而膜层与SiO2气溶胶不浸润的特性制作微孔光栏阵列，工艺简单，并可大规模快速制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 微孔 方法 | ||
【主权项】：
一种制作微孔光栏的方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）采用光刻方法在光学基板上刻蚀所需形状、尺寸的凸起；（2）在凸起上镀一膜层，将此光学基板作为模板；（3）在光学基板的非镀膜区域覆盖SiO2气溶胶或低温焊料；（4）将SiO2气溶胶或低温焊料固化；（5）去除光学基板，形成所需微孔光栏；其中，所述光学基板采用可与SiO2气溶胶或低温焊料浸润的材料，凸起上镀的膜层采用与SiO2气溶胶或低温焊料不浸润的材料。
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