[发明专利]离子扩散法改性钨酸铅晶体的工艺有效
申请号: | 201110425979.3 | 申请日: | 2011-12-16 |
公开(公告)号: | CN102534802A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 向卫东;邵明国;梁晓娟;黄海宇;陈兆平 | 申请(专利权)人: | 温州大学 |
主分类号: | C30B31/02 | 分类号: | C30B31/02 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 黄美娟;俞慧 |
地址: | 325035 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种离子扩散法改性钨酸铅晶体的工艺,包括以下步骤:1)以PbO粉末和WO3粉末为原料,按照n(PbO)∶n(WO3)=1∶1摩尔比精确配料,利用坩埚下降法或提拉法生长钨酸铅晶体;2)将生成的钨酸铅晶体经X射线定向仪精确定向、切割、研磨成厚度为2~5mm规格的钨酸铅晶片,清洗后得到纯钨酸铅晶体样品;3)将步骤(2)得到的纯钨酸铅晶体样品放入装有金属氧化物粉末的坩埚中,使纯钨酸铅晶体样品被金属氧化物粉末严实包裹,然后将坩埚放入马弗炉中,升温至800~1000℃,保温12~36h后扩散结束,然后降温至室温,得到改性的钨酸铅晶体。本发明具有低能耗、高效率的特点。 | ||
搜索关键词: | 离子 扩散 改性 钨酸铅 晶体 工艺 | ||
【主权项】:
离子扩散法改性钨酸铅晶体的工艺,包括以下步骤:1)以PbO粉末和WO3粉末为原料,按照n(PbO)∶n(WO3)=1∶1摩尔比精确配料,利用坩埚下降法或提拉法生长钨酸铅晶体;2)将生成的钨酸铅晶体经X射线定向仪精确定向、切割、研磨成厚度为2~5mm规格的钨酸铅晶片,清洗后得到纯钨酸铅晶体样品;3)将步骤(2)得到的纯钨酸铅晶体样品放入装有金属氧化物粉末的坩埚中,使纯钨酸铅晶体样品被金属氧化物粉末严实包裹,然后将坩埚放入马弗炉中,升温至800~1000℃,保温12~36h后扩散结束,然后降温至室温,得到改性的钨酸铅晶体。
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