[发明专利]形成通过封装剂之上的绝缘层的开口供互连结构的增强粘合性的半导体器件和方法有效
申请号: | 201110429755.X | 申请日: | 2011-12-09 |
公开(公告)号: | CN102569097A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 林耀剑;陈康;方建敏 | 申请(专利权)人: | 新科金朋有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/498 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 俞华梁;王忠忠 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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摘要: | 半导体器件具有安装到载体的半导体小片。封装剂沉积在半导体小片和载体之上。去除载体。在半导体小片的占用面积外部的互连部位中的封装剂的一部分之上形成第一绝缘层。开口形成为通过互连部位中的第一绝缘层,以便露出封装剂。开口能够是环形的或是互连部位周围以及互连部位的中心区域中的通孔,以便露出封装剂。在第一绝缘层之上形成第一导电层,以便跟随第一绝缘层的轮廓。在第一导电层和外露封装剂之上形成第二导电层。在第二导电层之上形成第二绝缘层。在互连部位中的第二导电层之上形成凸块。 | ||
搜索关键词: | 形成 通过 封装 之上 绝缘 开口 互连 结构 增强 粘合 半导体器件 方法 | ||
【主权项】:
一种制作半导体器件的方法,包括:提供载体;将半导体小片安装到所述载体;将封装剂沉积在所述半导体小片和载体之上;去除所述载体;在所述半导体小片的占用面积外部的互连部位中的所述封装剂的一部分之上形成第一绝缘层;去除所述互连部位中的所述第一绝缘层的一部分,以便露出所述封装剂;在所述第一绝缘层和外露封装剂之上形成第一导电层;在所述第一导电层之上形成第二绝缘层;以及在所述互连部位中的所述第一导电层之上形成凸块。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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