[发明专利]用于塑料功能性微结构表面批量化生产的采用软光刻技术复制塑料功能性微结构表面的方法无效
| 申请号： | 201110435677.4 | 申请日： | 2011-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102515091A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 赵清亮;姜涛;张珊珊;于欣;董志伟 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 牟永林 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 用于塑料功能性微结构表面批量化生产的采用软光刻技术复制塑料功能性微结构表面的方法，属于功能性塑料元件表面的制备领域。它解决了目前超疏水性微结构表面的批量制备存在的高成本及低效率的问题。它包括以下步骤：制备具有超疏水性塑料功能性微结构表面的母模；采用软光刻复制技术制备反模；采用软光刻复制技术将所述反模的功能和结构转移至极紫外光可以修复的塑料材料表面，并采用剥离技术将极紫外光可以修复的塑料材料表面从反模上分离，得到与母模相同的塑料功能性微结构表面，实现对塑料功能性微结构表面的复制。本发明适用于塑料功能性微结构表面的批量化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 塑料 功能 微结构 表面 批量 化生 采用 光刻 技术 复制 方法 | ||
【主权项】：
一种用于塑料功能性微结构表面批量化生产的采用软光刻技术复制塑料功能性微结构表面的方法，其特征在于：它包括以下步骤：步骤一：制备具有超疏水性塑料功能性微结构表面的母模；步骤二：采用软光刻复制技术将步骤一中制备的母模的功能和结构转移到光学透明的弹性体PDMS聚合物上，并采用剥离技术将该弹性体PDMS聚合物与母模分离，得到的弹性体PDMS聚合物作为反模；步骤三：采用软光刻复制技术将所述反模的功能和结构转移至极紫外光可以修复的塑料材料表面，并采用剥离技术将极紫外光可以修复的塑料材料表面从反模上分离，得到与母模相同的塑料功能性微结构表面，实现对塑料功能性微结构表面的复制。
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