[发明专利]低辐射镀膜玻璃及其制造方法无效
| 申请号： | 201110436649.4 | 申请日： | 2011-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN102514285A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 林嘉宏 | 申请（专利权）人： | 林嘉宏 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;B32B15/00;C03C17/36 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 中国台湾台北市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃及其制造方法，所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜系，所述膜系自玻璃基片向外依次包括：第一电介质层、第二电介质层、第一功能层、第一阻挡层、中间电介质组合层、第三电介质层、第二功能层、第二阻挡层、顶层下电介质层、顶层上电介质层。本发明的玻璃产品呈自然色，颜色均一，并且在可见光区透过率高，在近红外区具有低辐射的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 镀膜 玻璃 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜系，其特征在于，所述膜系自玻璃基片向外依次包括：第一电介质层、第二电介质层、第一功能层、第一阻挡层、中间电介质组合层、第三电介质层、第二功能层、第二阻挡层、顶层下电介质层、顶层上电介质层。
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