[发明专利]碳化硅化学气相外延载物台装置有效
申请号: | 201110437215.6 | 申请日: | 2011-12-23 |
公开(公告)号: | CN103173737A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 朱明星;石彪;陈义;刘学超;杨建华;施尔畏 | 申请(专利权)人: | 上海硅酸盐研究所中试基地;中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 郭辉 |
地址: | 201800 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及化学气相沉积领域,具体涉及一种碳化硅化学气相外延载物台装置,该装置是分体式载物台装置,包括船型石英舟、石英托垫和石墨板。其中,船型石英舟前端为倾斜面,该倾斜面后为下凹平台面;石英托垫放置于石英舟下凹平台面上;石墨板放置于石英托垫上。本发明所述分体式载物台装置可用在水平式化学气相沉积反应室内,通过感应加热石墨板。本发明的优势在于:①沉积反应的气体流场和源物质分布均匀,气流扰动小;②对于大面积衬底,可以优化外延膜厚均匀性;③分体式设计可以降低使用成本并增加应用灵活性。 | ||
搜索关键词: | 碳化硅 化学 外延 载物台 装置 | ||
【主权项】:
一种碳化硅化学气相沉积设备使用的分体式载物台,它包括:船型石英舟、石英托垫和石墨板;其中,所述船型石英舟前端为倾斜面,该倾斜面后设置下凹平台面;所述石英托垫放置于所述下凹平台面上;所述石墨板放置于石英托垫上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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