[发明专利]处理单元和使用处理单元的图像形成装置有效
申请号: | 201110440852.9 | 申请日: | 2011-12-23 |
公开(公告)号: | CN102540842A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 桥本淳一;清水贵司 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | G03G21/18 | 分类号: | G03G21/18;G03G15/08;G03G15/00 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;崔巍 |
地址: | 日本国爱知县名*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 处理单元包括图像承载构件,第一框架,显影单元,按压组件,和按压力调节组件。第一框架支撑图像承载构件。显影单元包括显影辊和支撑显影辊的第二框架。按压组件产生作用在显影单元上的第一按压力,以便显影辊与图像承载构件压力接触。按压力调节组件接触第一框架和显影单元中的一个,并产生作用在显影单元上克服第一按压力的第二按压力。第二按压力小于第一按压力。 | ||
搜索关键词: | 处理 单元 使用 图像 形成 装置 | ||
【主权项】:
一种处理单元,其特征在于,包括:图像承载构件;第一框架,所述第一框架支撑所述图像承载构件;显影单元,所述显影单元包括显影辊和支撑所述显影辊的第二框架;按压组件,所述按压组件产生作用在所述显影单元上的第一按压力,以使得所述显影辊与所述图像承载构件压力接触;和按压力调节组件,所述按压力调节组件接触所述第一框架和所述显影单元中的一个,并产生作用在所述显影单元上抵抗所述第一按压力的第二按压力,所述第二按压力小于所述第一按压力。
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