[发明专利]湿法蚀刻工艺的先进工艺控制方法无效

专利信息
申请号: 201110441122.0 申请日: 2011-12-26
公开(公告)号: CN103173766A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 刘佳磊 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: C23F1/00 分类号: C23F1/00;C23F1/08;C30B33/10
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 董巍;顾珊
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种湿法蚀刻工艺的先进工艺控制方法,该方法包括以下步骤:通过测量装置测量,得到湿法蚀刻前膜的全图或线性膜厚度;减去湿法蚀刻后的目标膜厚度,确定实际的目标湿法蚀刻曲线;和根据所得实际的目标湿法蚀刻曲线确定蚀刻流程进行蚀刻。
搜索关键词: 湿法 蚀刻 工艺 先进 控制 方法
【主权项】:
一种湿法蚀刻工艺的先进工艺控制方法,该方法包括以下步骤:通过测量装置测量,得到湿法蚀刻前膜的全图或线性膜厚度;用所得湿法蚀刻前膜的全图或线性膜厚度减去湿法蚀刻后的目标膜厚度,确定实际的目标湿法蚀刻曲线;和根据所得实际的目标湿法蚀刻曲线确定蚀刻流程进行蚀刻。
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