[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201110445932.3 | 申请日： | 2011-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN103184009A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 姚颖;宋伟红;孙展龙 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于阻挡层的化学机械抛光液，该抛光液包含研磨颗粒、金属缓蚀剂、络合剂，氧化剂和水，其还包含一种两性表面活性剂。本发明的化学机械抛光液对超低k介电材料的去除速率有抑制作用，但对钽、铜和二氧化硅(Teos)的去除速率无明显的影响，因此可以大大提供衬底的抛光选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，该抛光液含有研磨颗粒、金属缓蚀剂、络合剂、氧化剂、水以及一种两性表面活性剂。
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