[发明专利]曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法无效
| 申请号： | 201110446843.0 | 申请日： | 2006-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN102520592A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 长坂博之 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法，该曝光方法具有以下步骤：于基板(P)上形成液体(LQ)的液浸区域(LR)的步骤；根据在基板(P)表面与液体(LQ)之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；根据曝光条件，透过液浸区域(LR)的液体(LQ)使基板(P)曝光的步骤。根据本发明，可对设有不同种类膜的复数基板分别良好地进行液浸曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 组件 制造 以及 评估 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法具有：于基板上形成液体的液浸区域的步骤；根据在所述基板表面与所述液体之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；以及根据所述曝光条件透过所述液浸区域的所述液体使所述基板曝光的步骤。
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