[发明专利]圆片级封装结构中的重布线层的制备方法及形成的结构无效

专利信息
申请号: 201110448249.5 申请日: 2011-12-28
公开(公告)号: CN103187312A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 朱春生;罗乐;徐高卫;宁文果 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/498
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种圆片级封装结构中的重布线层的制备方法及形成的结构。其中,根据基于介质薄膜来制备圆片级封装结构中的重布线层的方法,先将预制的介质薄膜黏贴在已涂覆粘接剂的待封装的圆片表面;随后再基于所述待封装的圆片表面的电气连接点的数量在所述介质薄膜表面制作重布线导线层,形成相应数量的相互隔离的导电区域,且使每一个导电区域电气连接一个电气连接点;随后在每一个导电区域表面形成一个导电凸点,由此形成圆片级封装结构。本发明的优点包括:不需要高温固化过程,可以有效降低圆片翘曲与内应力,可以很容易实现多层重布线结构,同时该结构还允许内嵌其他无源器件。
搜索关键词: 圆片级 封装 结构 中的 布线 制备 方法 形成
【主权项】:
一种基于介质薄膜来制备圆片级封装结构中的重布线层的方法,其特征在于,所述方法至少包括步骤:1)将预制的介质薄膜黏贴在已涂覆粘接剂的待封装的圆片表面;2)基于所述待封装的圆片表面的电气连接点的数量在所述介质薄膜表面制作重布线导线层,形成相应数量的相互隔离的导电区域,且使每一个导电区域电气连接一个电气连接点;所述方法还包括步骤:‑在每一个导电区域表面形成一个导电凸点。
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