[发明专利]微相位差膜制造方法有效
| 申请号： | 201110448629.9 | 申请日： | 2011-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102654597A | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 吴荣聪 | 申请（专利权）人： | 银海科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B27/26 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 王晶 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微相位差膜的制造方法，包括：首先，利用一拉伸压膜方式将一微结构相位薄膜层压成一微结构相位薄膜图案，包括至少两个开口部分以及至少两个相位延迟部分间隔地排列；然后，形成一均质材料层于微结构相位薄膜图案之上；最后，于微结构相位薄膜图案的背面进行一改质处理步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种微相位差膜的制造方法，其特征在于包括：利用一拉伸压膜方式将一微结构相位薄膜层压成一微结构相位薄膜图案，微结构相位薄膜图案包括至少两个开口部分以及至少两个相位延迟部分间隔地排列；形成一第一均质层于微结构相位薄膜图案之上，第一均质层覆盖在所述开口部分；对微结构相位薄膜图案的背面进行改质处理。
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