[发明专利]一种用于CPU的合成射流散热装置无效

专利信息
申请号: 201110456613.2 申请日: 2011-12-24
公开(公告)号: CN103176575A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 冯兰胜;张超 申请(专利权)人: 西安大昱光电科技有限公司
主分类号: G06F1/20 分类号: G06F1/20
代理公司: 西安创知专利事务所 61213 代理人: 李子安
地址: 710075 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种用于CPU的合成射流散热装置,包括底座,所述底座上侧设置有集热器,所述集热器下侧与CPU接触,所述集热器上侧设置散热片,所述散热片底部与所述集热器上部连接,所述散热片上侧设置有多个散热翅片,所述散热翅片之间设置有多个合成射流装置,所述合成射流装置包括腔体,所述腔体上侧喷口,所述腔体下侧固定有振动膜片,所述振动膜片下侧设置有压电片。本发明有如下特点:设计合理,结构简单,使用方便,体积小,节省安装空间,散热效率高,散热过程无噪声,可靠性高,适用范围广,生产成本低,便于推广使用。
搜索关键词: 一种 用于 cpu 合成 射流 散热 装置
【主权项】:
一种用于CPU的合成射流散热装置,包括底座(5),其特征在于:所述底座(5)上侧设置有集热器(1),所述集热器(1)下侧与CPU(6)接触,所述集热器(1)上侧设置散热片(2),所述散热片(2)底部与所述集热器(1)上部连接,所述散热片(2)上侧设置有多个散热翅片(3),所述散热翅片(3)之间设置有多个合成射流装置(4),所述合成射流装置(4)包括腔体(4‑1),所述腔体(4‑1)上侧喷口(4‑2),所述腔体(4‑1)下侧固定有振动膜片(4‑3),所述振动膜片(4‑3)下侧设置有压电片(4‑4)。
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