[发明专利]沉积掩模有效
| 申请号： | 201110456767.1 | 申请日： | 2011-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN102691031A | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | 小林郁典;高政佑;李相信;姜择教 | 申请（专利权）人： | 三星移动显示器株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种沉积掩模。在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉力而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第n初始设计图案在内的第一初始设计图案至第n初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第n校正图案，第一初始设计图案至第n初始设计图案沿第一方向顺序地布置，其中，第一校正图案至第n校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第n初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第n初始设计图案向外凸出。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 | ||
【主权项】：
一种沉积掩模，所述沉积掩模在拉力的作用下放置在掩模框架上，所述沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉力而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第n初始设计图案在内的第一初始设计图案至第n初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第n校正图案，第一初始设计图案至第n初始设计图案沿第一方向顺序地布置，其中，第一校正图案至第n校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第n初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第n初始设计图案向外凸出。
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