[发明专利]一种APS芯片测试及筛选方法有效

专利信息
申请号: 201110460765.X 申请日: 2011-12-29
公开(公告)号: CN102540056A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 李晓;钟红军;李春江;卢欣;赵春晖;武延鹏;郑然;李玉明;刘达;程会艳 申请(专利权)人: 北京控制工程研究所
主分类号: G01R31/308 分类号: G01R31/308;B07C5/344
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 安丽
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种APS芯片测试及筛选方法,针对宇航级APS芯片成本高、采购周期长带来的影响,对工业级APS芯片进行高温老炼试验,并对老炼前后APS芯片的特定的光电性能参数进行测试,通过比较老炼前后光电参数的变化量来判断器件的性能的优劣,从中筛选出满足宇航任务使用要求的芯片。
搜索关键词: 一种 aps 芯片 测试 筛选 方法
【主权项】:
1.一种APS芯片测试方法,其特征在于包括以下步骤:(1)获取测试用图像将被测APS芯片置于均匀光照下,选取n个曝光时间,并按选取的曝光时间各采集m幅的明场图像;将被测APS芯片置于暗室中,选取与明场图像相同的n个曝光时间,并按选取的曝光时间各采集m幅的暗场图像;(2)计算测试参数利用获取的共n*m幅明场图像,计算每个曝光时间情况下明场图像的均值μy.light、时域噪声方差空域噪声方差利用获取的共n*m幅暗场图像,计算每个曝光时间情况下暗场图像的均值μy.dark、时域噪声方差空域噪声方差(3)确定被测APS芯片的光电参数计算系统增益K,所述系统增益K用于表示APS芯片将生成的光电荷数转换为相应灰度值的转换系数;利用获得的系统增益K分别计算平均暗电流Nd,响应不一致性PRNU,暗电流不一致性DCNU,暗底不一致性DSNU。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京控制工程研究所,未经北京控制工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110460765.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top