[发明专利]碱反应性光酸发生剂以及包含其的光致抗蚀剂在审
| 申请号： | 201110462531.9 | 申请日： | 2011-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN102603586A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | E·阿恰达;李明琦;C-B·徐;D·王;刘骢;吴俊锡;山田晋太郎 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C07C381/12 | 分类号： | C07C381/12;C08F220/32;C08F220/38;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 碱反应性光酸发生剂以及包含其的光致抗蚀剂。本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这些化合物的光致抗蚀剂组合物。尤其地，本发明涉及包括碱式断裂基团的光酸发生剂化合物。提供了一种式(I)或(II)的光酸发生剂化合物：(I)R5M+R6R7r-O3S-R1p-Xy-(R2ZwR3)x；(II)(Pg-R4-Z2)g1R5M+R6R7r3-O3S-R1p-Xy-(R2ZwR3)x1(R2Z1-R4Pg)g2。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 性光酸 发生 以及 包含 光致抗蚀剂 | ||
【主权项】：
一种式(I)或(II)的光酸发生剂化合物(I)R5M+R6R7r‑O3S‑R1p‑Xy‑(R2ZwR3)x(II)(Pg‑R4‑Z2)g1R5M+R6R7r3‑O3S‑R1p‑Xy‑(R2ZwR3)x1(R2Z1‑R4Pg)g2其中每个R1选自(C1‑C10)烷基、含杂原子的(C1‑C10)烷基、氟代(C1‑C10)烷基、含杂原子的氟代(C1‑C10)烷基、(C6‑C10)芳基和氟代(C6‑C10)芳基；每个R2是化学键或(C1‑C30)烃基；每个R3是H或(C1‑C30)烃基；每个R4是化学键或(C1‑C30)烃基；R5、R6和R7独立地选自任选取代的碳环芳基、烯丙基和任选取代的(C1‑C20)烷基；X是化学键或二价连接基团；Z选自β‑杂原子‑取代内酯、乙酰乙酸酯、‑C(O)‑O‑C(O)‑R1‑、‑C(CF3)2O‑、‑COO‑Rf‑、‑SO3‑Rf‑、‑CH3‑z(CH2OC(＝O)‑Rf‑)z和包括碱反应性基团的(C5‑C30)环烃基；Z1是二价碱反应性基团；Z2选自β‑杂原子‑取代内酯、‑C(O)‑O‑C(O)‑R1‑、乙酰乙酸酯、‑COO‑Rf、‑SO3‑Rf‑、‑CH3‑z(CH2OC(＝O)‑Rf‑)z和包括碱反应性基团的(C5‑C30)环烃基；每个Rf独立为氟代(C1‑C10)烷基；Pg为可聚合基团；p＝0‑6；w＝1‑3；x＝1‑4；x1＝0‑4；y＝0‑5；z＝1‑2；g1＝0‑3；g2＝0‑3；r＝0‑1；M是S或I；其中当M＝I时，r＝0，和当M＝S时，r＝1，前提是g1和g2中的至少一个≠0。
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