[发明专利]聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法有效
| 申请号： | 201110463318.X | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102617790A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | Y·C·裴;M·M·梅耶;孙纪斌;李承泫;朴钟根 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/32 | 分类号： | C08F220/32;C08F222/14;G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
聚合物，光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法。提供包含具有特定乙缩醛部分的单元的聚合物和包含有这种聚合物的光致抗蚀剂组合物。同样提供光致抗蚀剂组合物涂覆的基体和形成光刻图案的方法。提供了一种聚合物，所述聚合物包括：由下述通式(I)单体形成的第一单元：其中R1代表氢或C1到C3烷基；R2代表单键或C1到C10有机基团；R3代表氢原子或C1到C10有机基团；R4各自独立的代表氢原子或C1到C10有机基团，键合在共有碳原子上的R4基团任选一起形成环；以及R5各自独立代表C1到C10有机基团，任选一起形成环；以及含有内酯部分的第二单元。 |
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| 搜索关键词： | 聚合物 光致抗蚀剂 组合 形成 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物，所述聚合物包括：由下述通式(I)单体形成的第一单元：![]()
其中R1代表氢或C1到C3烷基；R2代表单键或C1到C10有机基团；R3代表氢原子或C1到C10有机基团；R4各自独立的代表氢原子或C1到C10有机基团，键合在共有碳原子上的R4基团任选一起形成环；以及R5各自独立代表C1到C10有机基团，任选一起形成环；以及含有内酯部分的第二单元。
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