[实用新型]一种矩形平面磁控溅射阴极无效
| 申请号： | 201120023576.1 | 申请日： | 2011-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN201981253U | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 苏宜龙;赵子东 | 申请（专利权）人： | 上海子创镀膜技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海衡方知识产权代理有限公司 31234 | 代理人： | 王福新 |
| 地址： | 201617 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及到一种溅射真空镀膜装置，尤其涉及到一种平面溅射镀膜阴极装置。其采用的技术方案是提供一种矩形平面磁控溅射阴极，包括阴极组件、设置阴极组件上端的支承座、支撑座上端的阴极盖板，其中，所述支承座分为支撑座底板，支撑座中板，支撑座顶板，所述支撑座中板为绝缘体。结构简单，便于装配和拆卸，同时还减少了维修和维护的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 矩形 平面 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
一种矩形平面磁控溅射阴极，包括阴极组件、设置阴极组件上端的支承座、支撑座上端的阴极盖板，其特征在于，所述支承座分为支撑座底板，支撑座中板，支撑座顶板，所述支撑座中板为绝缘体。
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