[实用新型]具立体纹路转印膜有效
| 申请号： | 201120032304.8 | 申请日： | 2011-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN201979828U | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 刘锦彩 | 申请（专利权）人： | 正清国际有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/00 | 分类号： | B41M5/00;B32B3/26;B32B27/06;B44C5/04 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种具立体纹路转印膜，设置有以具延伸特性的转印材所制成的基材层，基材层底面形成有立体空间，该基材层底面设置有保护层，保护层表面为填充于立体空间内，使保护层表面形成有正向的光栅或立体状的接触面。 | ||
| 搜索关键词： | 立体 纹路 转印膜 | ||
【主权项】：
一种具立体纹路转印膜，该转印膜设置有基材层以及保护层，其特征在于：该基材层为以具延伸特性的转印材所制成，且基材层底面形成有反向光栅的立体空间；该保护层为设置于基材层底面，且保护层表面为填充于立体空间内形成有正向的光栅。
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