[实用新型]抛光装置有效
| 申请号： | 201120034350.1 | 申请日： | 2011-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN202021541U | 公开（公告）日： | 2011-11-02 |
| 发明（设计）人： | 高建;杨旭峰 | 申请（专利权）人： | 自贡硬质合金有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 四川君士达律师事务所 51216 | 代理人： | 彭立琼 |
| 地址： | 643011 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种抛光装置。其包括研磨盘，游星轮，研磨盘上设置至少两个固定套筒，每个套筒内放置一个抛光产品，套筒的尺寸与产品的尺寸相适配；产品上部设置压板。采用此种抛光装置进行研磨，每个产品的运动不受其它产品运动的影响，产品在游星轮里能够自由运动，而且对产品高度的一致性也没有要求。整个运动系统平稳、自由，研磨盘的表面几何形状易传递给产品，大大提高研磨产品表面质量和研磨一次合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种抛光装置，包括研磨盘，游星轮，其特征在于：研磨盘上还设置至少两个固定套筒，每个套筒内放置一个抛光产品，套筒的尺寸与产品的尺寸相适配；产品上部设置压板。
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