[实用新型]激光近场分辨率测量用4f光学系统无效
| 申请号： | 201120074815.6 | 申请日： | 2011-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN201983854U | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 李红光;董晓娜;达争尚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01J1/04 | 分类号： | G01J1/04;G02B27/30;G02B27/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 徐平 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种在激光近场分辨率测量用的4f光学系统，该激光近场分辨率测量用4f光学系统包括对入射光起发散作用的发散元件、对入射光起会聚作用的会聚元件以及探测器；发散元件、会聚元件以及探测器依次设置于同一光轴上。本实用新型提供了一种测量精度高、结构简单以及使用方便的激光近场分辨率测量用4f光学系统。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 近场 分辨率 测量 光学系统 | ||
【主权项】：
一种激光近场分辨率测量用4f光学系统，其特征在于：所述激光近场分辨率测量用4f光学系统包括对入射光起准直作用的准直元件、对入射光起会聚作用的会聚元件以及探测器；所述准直元件、会聚元件以及探测器依次设置于同一光轴上。
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