[实用新型]直下式背光源结构和底反射装置有效
| 申请号： | 201120076792.2 | 申请日： | 2011-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN201983118U | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 杨东升;刘飞;那志成 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方茶谷电子有限公司 |
| 主分类号： | F21S8/00 | 分类号： | F21S8/00;F21V5/02;F21V17/00;F21V19/00;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种直下式背光源结构，用以提供一种厚度较小的直下式背光源。该结构包括：发光体构成的光源阵列、扩散装置、底反射装置，其中，底反射装置上布设有漫反射结构；光源阵列位于扩散装置之下、底反射装置之上；发光体的出光面位于发光体的侧面。本实用新型还公开一种底反射装置。 | ||
| 搜索关键词： | 直下式 背光源 结构 反射 装置 | ||
【主权项】：
一种直下式背光源结构，其特征在于，包括：布设有漫反射结构的底反射装置；置于底反射装置之上的光源阵列，所述光源阵列包括多个发光体，所述发光体的出光面位于发光体的侧面；置于光源阵列之上的扩散装置。
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