[实用新型]在基片上生长薄膜的反应装置

摘要

本实用新型涉及一种在基片上生长薄膜的反应装置，包括：反应腔、气体输送装置、支撑装置、基片托架以及清洁装置。所述清洁装置可分离地安装在所述支撑装置上并且至少在所述清洁过程中保持与之接触。所述清洁装置包括一面向所述气体输送表面的一表面，所述表面上分布有若干刮擦结构。采用以上结构，本实用新型自动化程度高、有效、省时。

主权项

一种在基片上生长薄膜的反应装置，其特征在于，包括：反应腔；气体输送装置，其设置于所述反应腔内并包括一气体输送表面，用于向所述反应腔内释放反应气体并在所述基片上形成化合物薄膜；设置于所述反应腔内的一支撑装置；基片托架，其用于传送所述基片和对所述基片提供支撑，所述基片托架可分离地安装在所述支撑装置上并且至少在所述生长薄膜的过程中保持与之接触，所述基片托架能够容易地从所述支撑装置上移开，以用于传送所述基片托架以装载或卸载所述基片；清洁装置，其可分离地安装在所述支撑装置上并且至少在所述清洁过程中保持与之接触，所述清洁装置能够容易地从所述支撑装置上移开并被移出至所述反应腔外，所述清洁装置包括一面向所述气体输送表面的一表面，所述表面上分布有若干刮擦结构；以及旋转驱动装置，其可选择性地带动所述清洁装置上的所述若干刮擦结构旋转；其中，所述清洁装置在所述反应腔内具有一位置，在所述位置上，至少部分所述若干刮擦结构接触所述气体输送表面，并将附着在所述气体输送表面上的附着聚集物移除下来。