[实用新型]研磨头、研磨垫修整器及研磨装置有效
申请号: | 201120092541.3 | 申请日: | 2011-03-31 |
公开(公告)号: | CN202053157U | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 陈枫 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B53/12 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及研磨头、研磨垫修整器及研磨装置,所述研磨头包括本体,设置在所述本体靠近研磨垫一端的定位环和遮挡环,所述遮挡环设置在所述本体的外侧壁上,所述研磨垫修整器包括旋转基座、中间连杆、研磨托盘和固定基座,所述中间连杆的一端通过连接部件与所述旋转基座靠近所述研磨垫的一端连接,所述研磨托盘设置在所述中间连杆的另一端,所述固定基座设置在所述旋转基座的外围,并通过旋转轴承与所述旋转基座连接,以及遮挡环,所述遮挡环设置在所述固定基座的外侧壁上。本实用新型涉及研磨头、研磨垫修整器及研磨装置能有效防止研磨液溅射到研磨装置的表面,从而减少对晶圆的划伤,提高晶圆生产的良率。 | ||
搜索关键词: | 研磨 修整 装置 | ||
【主权项】:
一种研磨头,包括本体以及设置在所述本体靠近研磨垫一端的定位环,其特征在于,还包括遮挡环,所述遮挡环设置在所述本体的外侧壁上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120092541.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:研磨头
- 下一篇:角磨机延长杆操作装置