[实用新型]沉积腔有效
申请号: | 201120130232.0 | 申请日: | 2011-04-28 |
公开(公告)号: | CN202054890U | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 黄平;王烜;唐黎华 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/32 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型的沉积腔包括台座、与所述台座相连的座环,其特征在于,所述台座设有至少一个凹口,所述座环设有至少一片接触片,所述座环与所述台座相连时,所述接触片卡在所述凹口内。本实用新型的沉积腔座环与台座之间采用接触片来防止两者相对滑动,可防止座环被电击穿,从而防止晶圆与台座电接触。 | ||
搜索关键词: | 沉积 | ||
【主权项】:
一种沉积腔,包括台座、与所述台座相连的座环,其特征在于,所述台座设有至少一个凹口,所述座环设有至少一片接触片,所述座环与所述台座相连时,所述接触片卡在所述凹口内。
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