[实用新型]清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置无效
| 申请号： | 201120137323.7 | 申请日： | 2011-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN202070515U | 公开（公告）日： | 2011-12-14 |
| 发明（设计）人： | 宋立禄;胡孝策 | 申请（专利权）人： | 青岛赛瑞达设备制造有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;C23C16/44 |
| 代理公司： | 山东清泰律师事务所 37222 | 代理人： | 宁燕 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市高*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，它包括工作室、气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统和控制系统，其中工作室包括炉壁、隔热层、加热器、引入电极；隔热层与炉壁固定连接，引入电极由炉壁外穿过炉壁与隔热层并与加热器固定连接；气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别与工作室相连；控制系统与气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别相连；它解决了石墨盘上的沉积物一直困扰LED外延片生产的难题，使石墨盘经清洗后能够多次反复使用，从而降低生产成本，也为LED芯片生产的MOCVD工艺过程提供良好的质量保证。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 mocvd 备用 石墨 烤盘炉 装置 | ||
【主权项】：
一种清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于它包括工作室、气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统和控制系统，其中工作室包括炉壁、隔热层、加热器、引入电极；隔热层与炉壁固定连接，引入电极由炉壁外穿过炉壁与隔热层并与加热器固定连接；气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别与工作室相连；控制系统与气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别相连。
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