[实用新型]等离子体反应器有效
| 申请号： | 201120139662.9 | 申请日： | 2011-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN202246850U | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | A.萨拉巴斯;A.A.H.塔哈;D.乔达里;M.克林德沃特;C.埃勒特 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康太阳能股份公司（特吕巴赫） |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 薛峰;谭祐祥 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本实用新型涉及等离子体反应器，其包括真空容器，到所述真空容器的进气口装置，在所述真空容器中产生等离子体的等离子体装置，所述真空容器内的基底保持器以及排气装置，所述排气装置邻近所述真空容器的壁用于使气体从所述真空容器除去，并且所述排气装置与所述进气口装置并与所述基底保持器隔开一段距离，所述排气装置包括穿过所述壁的至少一个排出口以及至少一个气流转向器本体，其设计用于使将从所述真空容器除去的所述气体流的至少一部分在进入所述排出口之前转向。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 反应器 | ||
【主权项】：
等离子体反应器，其特征在于，其包括真空容器，到所述真空容器的进气口装置，在所述真空容器中产生等离子体的等离子体装置，所述真空容器内的基底保持器以及排气装置，所述排气装置邻近所述真空容器的壁用于使气体从所述真空容器除去，并且所述排气装置与所述进气口装置并与所述基底保持器隔开一段距离，所述排气装置包括穿过所述壁的至少一个排出口以及至少一个气流转向器本体，其设计用于使将从所述真空容器除去的所述气体流的至少一部分在进入所述排出口之前转向。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
