[实用新型]化学机械研磨设备有效
| 申请号： | 201120189723.2 | 申请日： | 2011-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN202088086U | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 唐强;李佩 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种化学机械研磨设备，包括研磨头和位于研磨头上方的研磨头带动装置，所述研磨头上方固定设置第一磁体，所述研磨头带动装置设置第二磁体，所述第一磁体与所述第二磁体位置相对。所述化学机械研磨装置在研磨头带动装置与研磨头之间通过磁力固定连接，以避免利用机械夹持件，从而减少腐蚀损伤，从而提高化学机械研磨质量。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 设备 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨设备，包括研磨头和位于研磨头上方的研磨头带动装置，其特征在于，所述研磨头上方固定设置第一磁体，所述研磨头带动装置设置第二磁体，所述第一磁体与所述第二磁体位置相对且磁性相反。
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