[实用新型]一种全自动单排研磨抛光一体机有效
申请号: | 201120195498.3 | 申请日: | 2011-06-13 |
公开(公告)号: | CN202162689U | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 冯学铭 | 申请(专利权)人: | 冯学铭 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B37/34 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 321000 浙江省金华*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种全自动单排研磨抛光一体机,包括上下连接在一起的机头和机身,机头内装配有铝排、铝排座和磨盘,机身内装配有驱动磨盘旋转的电机和主轴,机头和机身之间装配有滑轨以及与滑轨相配合以驱动机头和机身相对滑移的伸缩气缸;磨盘包括直径一小一大上下同轴叠套在主轴上的抛光盘和粗磨盘,粗磨盘上具有显露在抛光盘周向的环状粗磨面;主轴下方连接在驱动其上下升降的步进电机上。采用两个表面粗糙程度不一样的磨盘,进行先粗磨后抛光的递进技术,从而来提高磨抛效率。为了使得两个表面粗糙程度不一样的磨盘能够一起协同工作,通过采用直径大小不一的方法来形成两个磨抛面实现(即抛光盘的磨抛面和粗磨盘显露在外的环状磨抛面)。 | ||
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【主权项】:
一种全自动单排研磨抛光一体机,包括上下连接在一起的机头和机身,机头内装配有铝排、铝排座和磨盘,机身内装配有驱动磨盘旋转的电机和主轴,其特征在于,所述的机头和机身之间装配有滑轨以及与滑轨相配合以驱动机头和机身相对滑移的伸缩气缸;磨盘包括直径一小一大上下同轴叠套在主轴上的抛光盘和粗磨盘,粗磨盘上具有显露在抛光盘周向的环状粗磨面;主轴下方连接在驱动其上下升降的步进电机上。
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