[实用新型]晶片抛光机

摘要

晶片抛光机，在其机台的台面中部安装有下转盘，下转盘的下部安装有转轴，机台内安装有电机，电机用皮带连接转轴，在下转盘上包有一层打磨布，下转盘中部上方安装有出液管，在机台上安装有四根支柱，支柱的上端安装有固定架，固定架上固定有气缸，气缸的上部连接高压气阀，气缸的下部活动安装有晶片固定转盘，晶片固定转盘下表面有多个凹孔，凹孔内固定有晶片，晶片的下表面凸出在凹孔的下表面外；当下转盘转动时，活动固定在气缸下端的晶片固定转盘会随之自转，晶片固定转盘的自转会对下转盘的内外线速度差异进行补偿，使晶片固定转盘上的晶片受到的打磨程度趋于均匀，从而使晶片的打磨质量提高，打磨布的局部磨损减小，延长打磨布的使用寿命。

主权项

晶片抛光机，在其机台(1)的台面中部安装有下转盘(2)，下转盘(2)的下部安装有转轴(6)，机台(1)内安装有电机(8)，电机(8)用皮带(7)连接转轴(6)，在下转盘(2)上包有一层打磨布(3)，下转盘(2)中部上方安装有出液管(5)，其特征在于：在机台(1)上安装有四根支柱(9)，支柱(9)的上端安装有固定架(13)，固定架(13)上固定有气缸(12)，气缸(12)的上部连接高压气阀(14)，气缸(12)的下部活动安装有晶片固定转盘(11)，晶片固定转盘(11)下表面有多个凹孔(10)，凹孔(10)内固定有晶片(4)，晶片(4)的下表面凸出在凹孔(10)的下表面外。