[实用新型]一种大面积投影光刻系统有效
| 申请号： | 201120224617.3 | 申请日： | 2011-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN202133858U | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 雷亮;周金运;陈丽;魏威;江文龙 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 林丽明 |
| 地址： | 510006 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型是一种大面积投影光刻系统。本实用新型大面积投影光刻系统，包括准分子激光器、照明系统、平移台、掩模板、投影系统、硅片基板，其中掩模板及硅片基板分别装设在平移台的两端，准分子激光器通过照明系统进行光路调制与光束质量优化后，使紫外激光的光斑透过安装在平移台一端位置上的掩模板，掩模板所成的激光物象通过投影系统成像在安装在平移台另一端位置上的硅片基板上。本实用新型采用了计算机数字图像处理中的模式识别方法实现掩模、硅片对准标记相对位置的计算，以取代传统光度型方法中采用的求和投影算法的相对位置计算方式，可有效提高对准精度，本实用新型对准精度对比传统方法有显著的提高，可直接媲美衍射光栅型对准系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大面积 投影 光刻 系统 | ||
【主权项】：
一种大面积投影光刻系统，其特征在于包括有准分子激光器（1）、照明系统（2）、平移台（3）、掩模板（4）、投影系统（5）、硅片基板（6），其中掩模板（4）及硅片基板（6）分别装设在平移台（3）的两端，准分子激光器（1）通过照明系统（2）进行光路调制与光束质量优化后，使紫外激光的光斑透过安装在平移台（3）一端位置上的掩模板（4），掩模板（4）所成的激光物象通过投影系统（5）成像在安装在平移台（3）另一端位置上的硅片基板（6）上。
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