[实用新型]一种湿刻机水洗槽喷杆有效
| 申请号： | 201120225686.6 | 申请日： | 2011-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN202268332U | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 仇文政 | 申请（专利权）人： | 彩虹（佛山）平板显示有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;B08B3/02 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 杨晔 |
| 地址： | 528000 广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种湿刻机水洗槽喷杆，包括喷杆，喷杆的一端连接有电动机组，喷杆的下端设置有基板，所述的喷杆的排列方向为基板的运行方向，所述的喷杆上设置有喷嘴，电机组启动后，喷杆不停的作摇摆运动，喷嘴向基板喷射液体，清洗基板，具有节约用水，并且可降低基板产生水洗不匀的几率，提高良品率的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 湿刻机 水洗 槽喷杆 | ||
【主权项】：
一种湿刻机水洗槽喷杆，包括喷杆(1)，喷杆(1)的一端连接有电动机组(4)，喷杆(1)的下端设置有基板(2)，其特征在于，所述喷杆(1)的排列方向为基板(2)的运行方向。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
