[实用新型]带纳米级凹槽的光学保护膜有效
| 申请号： | 201120230865.9 | 申请日： | 2011-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN202186961U | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 周永南 | 申请（专利权）人： | 江阴市通利包装材料有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/02 | 分类号： | C09J7/02;C09J123/08;C09J131/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214411 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了带纳米级凹槽的光学保护膜，包括防护层和粘结层，防护层外表面设置有纳米级曲面凹槽，纳米级曲面凹槽排列方式为阵列式或随机式，密度不限。在保护膜中粘结层上引入纳米级凹槽，能增大层间接触面积，增强层间粘合力，且层间贴合时形成的小型气囊会提高保护膜的抗震性能；粘结层具有比较高的表面能，能够很好的粘附在制品表面，有效避免使用胶水等胶黏剂而造成的残胶现象。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 凹槽 光学 保护膜 | ||
【主权项】：
带纳米级凹槽的光学保护膜，包括防护层和粘结层，其特征在于，所述防护层外表面设置有纳米级曲面凹槽。
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