[实用新型]一种磁控溅射镀膜装置有效
| 申请号： | 201120241901.1 | 申请日： | 2011-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN202193838U | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 班超;程春生;张钦廉;曹嘉寰;李传文;符东浩;刘毅楠;赵浩 | 申请（专利权）人： | 平湖中天合波通信科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 周涛 |
| 地址： | 314200 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及到一种磁控溅射镀膜装置，该镀膜装置中包括有靶结构，所述的靶结构中包括有第一单组份靶、第二单组份靶和靶仓，所述的第一单组份靶和第二单组分靶各占据一个靶位，对称地放置于所述的靶仓中，第一单组份靶和第二单组份靶均连接有电源。本实用新型的镀膜设备在结构不变的情况下可实现两种单组份薄膜的制备，还可以实现多组份薄膜的制备，用该镀膜设备来制备的膜层可应用到一些特定领域，如需要组份膜层来控制膜层厚度，机械性能的领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射镀膜装置，该镀膜装置中包括有靶结构，其特征在于，所述的靶结构中包括有第一单组份靶、第二单组份靶和靶仓，所述的第一单组份靶和第二单组分靶各占据一个靶位，对称地放置于所述的靶仓中，第一单组份靶和第二单组份靶均连接有电源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于平湖中天合波通信科技有限公司，未经平湖中天合波通信科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201120241901.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：高速电主轴动态加载装置
- 下一篇：基于分光光谱光度、夜视辐射强度测试仪
- 同类专利
- 专利分类
