[实用新型]菜花状及表面附氧化物的多晶硅原料的清洗装置无效

专利信息
申请号: 201120265227.0 申请日: 2011-07-25
公开(公告)号: CN202105819U 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 周罗洪;李义;王达山 申请(专利权)人: 营口晶晶光电科技有限公司
主分类号: B08B3/04 分类号: B08B3/04;B08B3/12
代理公司: 北京市惠诚律师事务所 11353 代理人: 王美华
地址: 115007 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型涉及一种菜花状及表面附氧化物的多晶硅原料的清洗装置,包括酸洗池、溢流池和超声波溢流清洗池,溢流池由至少一个隔板依次分隔成至少两个水池,每个水池的底部具有排水口,相邻的两个水池之间的隔板的上沿具有溢流开口;超声波清洗池包括清洗水池和设置在清洗水池内的超声波发生器,清洗水池内装有清洗液并具有循环补水装置,超声波发生器设置在清洗水池的两相对的侧壁和底部,还具有对清洗液加热的加热装置。本实用新型的菜花料及表面附氧化物的多晶硅原料的清洗装置,经清洗后原料的表面非常洁净,缝隙里不存在氧化物和其他杂质,充分去除菜花状原料,标准程序下能达到投炉铸锭或拉晶的生产要求。
搜索关键词: 菜花 表面 氧化物 多晶 原料 清洗 装置
【主权项】:
一种菜花状及表面附氧化物的多晶硅原料的清洗装置,包括酸洗池、溢流池(1)和超声波溢流清洗池(2),其特征在于:所述的溢流池(1)由至少一个隔板(11)依次分隔成至少两个水池,每个水池的底部具有排水口(12),相邻的两个水池之间的隔板(11)的上沿具有溢流开口(13);所述的超声波清洗池(2)包括清洗水池和设置在清洗水池内的超声波发生器(21),清洗水池内装有清洗液并具有循环补水装置,所述的超声波发生器(21)设置在清洗水池的两相对的侧壁(22)和底部(23),还具有对清洗液加热的加热装置(24)。
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