[实用新型]大容积等离子化学气相沉积反应腔的抽真空系统有效
申请号: | 201120284907.7 | 申请日: | 2011-08-05 |
公开(公告)号: | CN202201970U | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 郭锋 | 申请(专利权)人: | 上海曙海太阳能有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 雷绍宁 |
地址: | 201300 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型一种大容积等离子化学气相沉积反应腔的抽真空系统,包括反应腔和分子泵,还包括缓冲腔,所述分子泵与缓冲腔相连,缓冲腔通过连接管路与所述反应腔相连,并在连接管路上设有开关阀,缓冲腔还与前级真空泵相连。本实用新型大容积等离子化学气相沉积反应腔的抽真空系统,通过在反应腔与分子泵间加缓冲腔,使缓冲腔处于真空状态,可以使分子泵很快达到最大转速,节省对反应腔抽高真空的时间。 | ||
搜索关键词: | 容积 等离子 化学 沉积 反应 真空 系统 | ||
【主权项】:
一种大容积等离子化学气相沉积反应腔的抽真空系统,包括反应腔和分子泵(2),其特征在于,还包括缓冲腔(1),所述分子泵(2)与缓冲腔(1)相连,缓冲腔通过一连接管路(5)与所述反应腔相连,并在所述连接管路(5)上设有开关阀(4),缓冲腔(1)还与前级真空泵(3)相连。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的