[实用新型]溅射设备有效

专利信息
申请号: 201120291175.4 申请日: 2011-08-11
公开(公告)号: CN202187058U 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 黄秋平 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/50
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 韩国胜;王莹
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及液晶显示器制作技术领域,特别涉及一种溅射设备,包括承载机、中间腔体、换轨腔体及托盘,所述承载机、中间腔体、换轨腔体成顺序设置,中间腔体两端分别与承载机与换轨腔体相连,所述托盘设置于所述承载机、中间腔体和换轨腔体上;所述承载机和换轨腔体的上部均设置磁导轨,所述承载机的磁导轨的底部右端设置有卡槽,所述换轨腔体的底部左端设置有卡槽,所述托盘两侧的顶部设置有卡扣,所述卡槽与卡扣能卡合形成固定装置。本实用新型能够减少玻璃基板在溅射成膜工艺中振幅过大,震动过多等问题,降低了玻璃基板的破碎损坏几率。
搜索关键词: 溅射 设备
【主权项】:
一种溅射设备,包括承载机、中间腔体、换轨腔体及托盘,所述承载机、中间腔体、换轨腔体成顺序设置,中间腔体两端分别与承载机与换轨腔体相连;所述托盘设置于所述承载机、中间腔体和换轨腔体上;所述承载机和换轨腔体的上部均设置有磁导轨,其特征在于,所述承载机、换轨腔体的磁导轨底部与托盘两侧的顶部卡合成固定装置。
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