[实用新型]降低多晶硅片翘曲度的装置有效
申请号: | 201120294248.5 | 申请日: | 2011-08-14 |
公开(公告)号: | CN202208778U | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 江笠 | 申请(专利权)人: | 上海合晶硅材料有限公司 |
主分类号: | C30B28/14 | 分类号: | C30B28/14;C30B29/06 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 李强 |
地址: | 201617 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种降低多晶硅片翘曲度的装置,包括反应炉管,其特征在于,所述反应炉管底部设置有弥散管,弥散管两端均设置有进口;弥散管管壁上设置有多个通孔;弥散管通过通孔与反应炉管连通。本实用新型通过选择合适的装置,在硅片表面生长多晶薄膜后,WARP增加量最小可达到5.35。且硅片的均匀性也能达到使用要求。 | ||
搜索关键词: | 降低 多晶 硅片 曲度 装置 | ||
【主权项】:
降低多晶硅片翘曲度的装置,包括反应炉管,其特征在于,所述反应炉管底部设置有弥散管,弥散管两端均设置有进口;弥散管管壁上设置有多个通孔;弥散管通过通孔与反应炉管连通。
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