[实用新型]一种用于单晶硅热场的加热器有效

专利信息
申请号: 201120315050.0 申请日: 2011-08-26
公开(公告)号: CN202226960U 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 李宁;赵世锋;张卫中;王汉召;金莹;李雷 申请(专利权)人: 河北宇晶电子科技有限公司
主分类号: C30B15/14 分类号: C30B15/14;C30B29/06
代理公司: 石家庄汇科专利商标事务所 13115 代理人: 刘闻铎
地址: 065201 河北省廊坊市三*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型应用于电子、光伏行业,涉及一种用于单晶硅热场的加热器,包括两个支撑脚和连接配装在两个支撑脚之间的加热片,加热片为上、下连续回绕的蛇形且回绕的加热片之间留有间隙,所述的上、下回绕的加热片为上宽下窄的设置。本实用新型采用非均匀的加热器加热片,可以使加热器的高温区域向下移动,从而使加热器上部的温度梯度加大,同时使适合晶体生长的温度区域加大,结晶前沿横向的温度梯度适当平稳。
搜索关键词: 一种 用于 单晶硅 加热器
【主权项】:
一种用于单晶硅热场的加热器,包括两个支撑脚和连接配装在两个支撑脚之间的加热片,加热片为上、下连续回绕的蛇形且回绕的加热片之间留有间隙,其特征在于:所述的上、下回绕的加热片为上宽下窄的设置。
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